新一代製程的關鍵:13.5奈米的「極端」紫外光
■從1990年代至今,半導體界持續使用波長為248奈米和193奈米的光源製造電子元件。這段期間科學家和工程師不斷挑戰物理極限,使用相同的波長製造出更精細的元件,至今已經超過二十年。然而,半導體從1997年的250奈米節點到2018年的7奈米節點,很難再繼續微縮了。為了製作更小更快的電子元件,半導體製程需要波長越短的光線。下一個世代的半導體將會使用全新的光源:波長為13.5奈米的極端紫外光。
Read more■從1990年代至今,半導體界持續使用波長為248奈米和193奈米的光源製造電子元件。這段期間科學家和工程師不斷挑戰物理極限,使用相同的波長製造出更精細的元件,至今已經超過二十年。然而,半導體從1997年的250奈米節點到2018年的7奈米節點,很難再繼續微縮了。為了製作更小更快的電子元件,半導體製程需要波長越短的光線。下一個世代的半導體將會使用全新的光源:波長為13.5奈米的極端紫外光。
Read more在本系列(上),我們簡單介紹電磁波遇到材料的行為,(下)將要進入正題:金屬。我們在(上)提到金屬對不同波長電磁波具備不同特性。其最根本的原因是每個材料的 n+ iκ 會隨波長變化,它並不是個定值,隨波長變化的折射率正是世界如此多彩的原因。
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